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이름 올포시스템 작성일 2010-05-10 읽음 76

제목 Vacuum or Plasma Systems / Plasma 계측기 / 산소분석기 / Module & Parts

첨부 1 : 최종 제품 브로셔.pdf (795.91kB) 받음: 44
첨부 2 : ICP-RIE System 납품 자료.pdf (1,021.94kB) 받음: 124

플라즈마 원천 기술을 가지고 Plasma Source와 RF Module 그리고 Plasma System을 개발 및 제작하는 업체에서 설계 및 제작 했을 뿐만 아니라 개발에도 참여한 엔지니어가 설립한 회사가 All For System입니다.
Vacuum 또는 Plasma Systems 및 실험용 장비 뿐만 아니라 실험을 위한 Parts 및 Module도 고객이 원하는 Concept을 최대한 반영하여 제작 가능한 기업 입니다.

참조)
System 제품군은 다음과 같습니다.
- Deposition(Coating) System:
PECVD, ICP-CVD, Thermal CVD, (PE)ALD, Sputter, DLC Coating System
Graphene 연구 가능
- Etching / Ashing System:
RIE, ICP-RIE, Ashe
ICP Source와 ICP type RF Matcher는 양산에 적용되고 있음
- Plasma Polymerization System
- Plasma Surface Treatment System
- Multi Plasma System
- Customized Plasma System
- ATM Plasma System

계측기 제품군은 다음과 같습니다.
- 저희 제품 중에서 세계에서 최초로 개발 Plasma 계측기가 있습니다.
기존의 계측기는 Deposition 되면 측정이 않되지만 제가 보내드리는 자료의 계측기는
Etching 뿐만 아니라 실공정(CVD, Sputter)에서도 Plasma 변수를 측정 가능합니다.
저희 Plasma System에 Option으로도 가능합니다.

- 산소분석기: Furnace, RTP, Reactive Sputter, 등에 적용 하고 있습니다..
산소에 의해 Sample이 표면이 변형이 일러 날 수 있는 공정에 적용 가능합니다.
현재 양산라인에 적용 중입니다.

설계가 필요한 가공품 제작과 Vacuum 및 Plasma Parts와 Module도 취급하고 있습니다.

더 많은 정보를 원하시면 언제든지 연락만 주세요!

끝까지 읽어 주셨어 감사합니다.

--
ALL FOR SYSTEM
영업마케팅팀 / 팀장 강 신 석
H.P : 019-674-6650
TEL : 042-933-2514
E-Mail : allforsystem@gmail.com
http://www.allfs.co.kr or http://www.allfs.com

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